成电路芯片均采用超导锡烯二维材料制程工艺，一种更廉价、更高效的芯片材料，正式因为锡烯的应用，使得芯片元件的尺寸缩小了八分之一，功耗降低了90%以上，所以我们看到了2.0比上一代更加小型化，我们坚信未来的集成电路，锡烯材料必将取代硅材料，涌镇或许要改名为锡镇了。”

    话音未落，全场再次沸腾了。

    再次压下了沸腾的现场，叶华开始沉稳的介绍PHC2.0的各大技术亮点，以及国产集成电路工业的突破。

    在发布会接下来的时间又公布了两个让全民为之沸腾的消息，一个是完全具备自主知识产权的国产5纳米级的EUV光刻机和等离子蚀刻机。

    对于蚀刻机而言，大家内心无太大波动，因为这个领域国内的中微半导体一直走在世界一流的前列，真正心中心头之痛是光刻机，这是芯片制造中难度最高的设备，国产光刻机始终落后外国三代以上，进一步导致的是整个国产半导体工业的落后。

    当叶华宣布一项项技术的突破时，是一次次全民沸腾的时刻。

    “天呐，这是不是梦？如果是梦别让我醒来。”

    “我们能够做到5纳米级国产光刻机了？”

    “也就是说从今天开始，国产半导体正式步入高端领域了？”

    “应该是了，不说领先世界，起码步入世界一流无疑了。”

    “国产半导体材料选择了锡烯，那绝对是完全独立自主的知识产权了，老外搞的硅片，涌镇半导体搞的锡片。”

    “从90纳米，到5纳米，只用了半年，叶华和整个CSAC半导体联盟是怎么做到的？”

    不仅是现场的外媒记者和外国从业者嘉宾们感到不可置信，就连无数国人都感到不可思议，什么时候半导体制程工艺这么容易了？

    在全场沸腾不断之中也伴随着诸多质疑的目光，但接下来叶华在所有人面前展示了PHC2.0展品，一系列流畅的操作简直美如画，尤其他大手向外一扫，七百多个视频面板被甩出来悬浮在空中的时候，这幅场景震撼了每一个人。

    每一个亲眼目睹着都简直不敢相信眼前看到的画面，这是一台比平板电脑体格稍微大那么一点的PHC2.0实现的，大家不由自主的想到了海岸线公司标志性那段话：科幻照进现实。

    叶华在用实际行动像-->>

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